리튬 광석은 백운모형 및 레피돌라이트형 화강암 페그마타이트에서 생산되는 주요 리튬 공급원 중 하나입니다. 레피돌라이트, 베릴, 니오븀-탄탈라이트, 토르말린, 백운모 등과 공존하는 경우가 많습니다. 이러한 맥석광물과 동일한 규산염광물에 속합니다. 리튬 광석 부유 공장은 리튬 광석을 정화하기 위해 리튬 광석 부유 기술을 사용하는 경우가 많습니다. 리튬광석 부유선광 기술에 대해 알아봅시다.
리튬광석 부유선광 기술
리튬 부양 선광 기술은 주로 폼 부양 기술을 의미합니다. 리튬광석 부유선광 기술은 일반적으로 다음과 같은 작업을 포함합니다.
1.연삭
광석은 다른 광물(또는 맥석 광물)로부터 리튬 광물을 해리하는 첫 번째 분쇄물입니다.
2. 크기 조정 및 투여
부양 요구 사항에 맞게 슬러리 농도를 조정하고 필요한 부양 시약을 추가하여 효율성을 향상시킵니다.
3.부양분리
펄프를 부풀려 부양기에서 부유시켜 미네랄 분리를 완료합니다.
4. 탈수 및 분리
부유 후, 폼 제품과 광미 제품은 탈수되어 분리됩니다.
리튬광석 부유선광 기술의 선광 및 부유선광 공정
리튬 광석 부양 기술의 선광 및 부양 공정은 주로 다음을 포함합니다.분쇄, 연삭 및 분류.
1. 분쇄리튬 광석의 입자 크기에 대한 다음 공정의 요구 사항을 충족시키기 위해 큰 리튬 광석 조각을 작은 조각으로 변경하는 것입니다.
2.연삭매질(강구, 쇠막대, 자갈)과 기계장치 내 광물 자체의 충격 및 분쇄작용을 통해 맥석광물로부터 리튬광석을 최대한 해리시켜 다음과 같은 입자크기를 제공하는 물질이다. 혜택 과정.
3.정렬리튬 광석 선별 또는 분류라고도 하는 는 특정 선광 방법을 사용하여 리튬 광석에 있는 귀중한 광물, 맥석 광물 및 다양한 유익한 광물을 서로 분리하고 별도로 농축합니다. 분류된 제품은 리튬광석 정광과 리튬광석 광미입니다.
그만큼리튬광석 부양 기술의 내부 구조, 주요 공정의 내용 외에도 각 섹션의 분쇄 및 분류 시간, 각 사이클의 황삭, 선광 및 청소 시간, 중광석 처리 방법 및 공급 공정도 포함됩니다. 황삭은 각 선별 주기에서 광석을 공급하는 첫 번째 선별 작업이며, 대략적인 선택은 일반적으로 한 번만 수행됩니다. 이는 주로 중간 입자 크기를 가지며 부유하기 쉬운 단일 광석 입자의 부유에 사용됩니다. 때로는 2차 황삭도 있습니다. 이는 거칠어진 광물의 부유선광이 다르기 때문이며, 일부는 다른 조건에서 거칠게 가공해야 하기 때문입니다. 2차 황삭 농축물과 1차 황삭 농축물을 결합할 수 있습니다. 농축 등급을 향상시키기 위해 거친 폼 제품을 처리하는 데 사용되는 작업을 선광이라고 합니다. 거친 광미에는 일반적으로 다음이 포함됩니다.
- 부유하기 어려운 거친 입자.
- 미세한 입자.
- 불완전한 단량체 분리가 있는 연속체.
선광 회수를 개선하기 위해 거친 광미를 처리하는 데 사용되는 작업을 스위핑이라고 합니다. 더 거친 광미에서는 결합된 많은 몸체가 단량체에서 분리되지 않고 등급이 여전히 높으며 재선출을 위해 재분쇄로 보낼 수도 있습니다.
리튬광석 부유선광 기술은 주로 영향을 미칩니다.광석성상, 분쇄분도, 교반조작, 조정제비율, 물경도. 오염되지 않은 표면을 지닌 순수한 스포듀민 미네랄은 올레산 및 비누제와 함께 쉽게 부유됩니다. 부유 펄프의 최적 pH는 중성 약알칼리성 근처입니다. 스포듀민 부유선광 전에 Na2CO3를 첨가하여 펄프 내 용융된 염이온의 영향을 제거하고 교반 및 탈회를 수행해야 합니다. 리튬광석의 표면은 NaOH를 첨가하여 형성된 고알칼리성 매질에서 스크러빙(리튬광석)되어야 합니다. NaOH의 양에 따라 휘석의 회수율이 결정됩니다.)
리튬광석 부유선광 기술의 원리
고체 리튬 광물 입자와 물로 구성된 슬러리(슬러리는 일반적으로 등급 지정 또는 농축 작업에서 생성됨)는 먼저 교반 탱크에서 적절한 부유 시약과 조화를 이루어야 합니다. 필요한 경우 공정에서 일부 반환된 물(예: 여과액) 또는 물을 사용하여 부유선광 요구 사항을 충족하도록 슬러리 농도를 조정합니다. 펄프를 부양 시약과 혼합하는 주요 목적은 다음과 같습니다.
- 부유할 광물 표면의 소수성을 높이기 위해 수집제나 활성화제를 추가합니다.
- 부유하고 싶지 않은 광물의 표면을 더욱 친수성으로 만들어 부유를 억제하기 위해 억제제를 첨가합니다.
- 기포의 형성과 분산을 촉진하기 위해 발포제를 첨가합니다.
조정된 펄프는 부양 셀로 보내지고, 회전하는 임펠러에 의해 펄프와 공기가 동시에 부양 셀로 흡입됩니다. 공기는 슬러리 흐름의 움직임에 의해 많은 기포로 분쇄됩니다. 발포제는 마이크로버블의 형성과 분산을 촉진합니다. 슬러리에서 기포는 광석 입자와 충돌합니다. 그리고 표면 소수성의 차이에 따라 광석 입자가 기포 표면에 부착되는지 여부가 결정됩니다. 표면 소수성이 강한 광석 입자는 기포 표면에 부착되어 기포에 의해 운반되어 광석 슬러리 표면으로 올라와 발포층을 형성합니다. 긁어낸 폼을 리튬광석 정광이라고 합니다. 표면 친수성이 강한 입자는 광석 슬러리와 상호 작용하지 않습니다. 기포는 슬러리에 부착되어 남아 있으며 최종적으로 슬러리 흐름과 함께 탱크 밖으로 배출되어 리튬 광석 광미가 됩니다.
리튬광석 부양 기술의 특징은 무엇입니까?
부유선광 기술을 통해 산업적 가치가 있는 리튬 광석, 특히 미세한 입자의 스포듀민을 선별할 수 있습니다. 리튬광석을 부유하는 동안 일반적으로 "3가지 알칼리와 2가지 비누"를 첨가하여 대상 광물의 분리 과정을 완료할 수 있습니다.
세 가지 알칼리:리튬광석 부유선광의 조절제로 사용되는 수산화나트륨(NaOH), 탄산나트륨(Na2CO3), 황화나트륨(Na2S)을 말합니다. Na2CO3 및 Na2S는 펄프에 용해된 염 이온의 영향을 제거하는 데 사용됩니다. NaOH에 의해 형성된 고알칼리성 매체는 리튬 광석의 표면을 닦을 수 있습니다. 리튬 광석의 투입량, 추가 위치 및 분류 공정에 사용되는 물의 Ca2+ 농도는 모두 리튬 광석 부양에 영향을 미칩니다.
비누 2개:산화파라핀비누, 나프텐산비누를 말하며 스포듀민 포집제로 사용되며 발포성을 가지고 있습니다. 그러나 물의 경도에 따라 복용량이 달라집니다. 수질이 연할 때 나프텐산 비누는 부양에 도움이 되지 않습니다. 오히려 부양효과가 현저히 높아진다.
리튬 광석 부양에 일반적으로 사용되는 장비
조 크러셔, 해머 크러셔, 콘 크러셔, 원형 진동 스크린, 선형 진동 스크린, 셀프 센터링 진동 스크린, 건식 볼 밀, 습식 볼 밀, 나선형 분류기, 회전 흐름 장치, 혼합 탱크, XCF 부양 기계, KYF 부양 기계, SF 부양기, JJF 부양기 등
리튬광석 부유선광 기술에는 주로 포지티브, 리버스, 복합 부유선광 기술이 포함됩니다. 표면의 순수한 스포듀민은 올레산과 그 비누에 의해 쉽게 부유됩니다. 부유선광의 pH 범위는 4.0-9.0이며, 최적 pH는 약알칼리성입니다. 풍화작용이나 슬러리 중의 슬라임 등에 의해 표면이 오염된 리튬광석의 경우 부유성이 저하된다. 유해이온(Ca2+, Fe3+, Mg2+ 등)으로 인해 석영과 같은 맥석광물이 활성화되어 부양효과를 저하시킨다. 연구에 따르면 스포듀민의 표면을 먼저 알칼리(NaOH와 같은 강염기)로 처리하면 스포듀민이 다양한 양이온 수집기로 쉽게 부유할 수 있는 것으로 나타났습니다.